台积电总裁魏哲家上周进行了一趟非常重要的“欧洲行”，拜访了三家与延续摩尔定律息息相关的欧洲半导体企业，分别是荷商ASML、德商蔡司Zeiss和德商创浦TRUMPF。
ASML执行长Christophe Fouquet在Linkedin上表示，上周在企业总部Veldhoven接待了魏哲家，且藉由此宝贵机会强化ASML和台积电的紧密合作关系。 并且展示了ASML最新产品和创新技术，透过改善EUV曝光机平台，持续推动半导体技术往前。
Christophe Fouquet近一步指出，在ASML生产最新0.33 NA EUV系统的EUV工厂中，与魏哲家分享了 TWINSCAN NXE:3800E曝光机如何以更具成本效益的方式来生产最先进的制程技术。 此外，在比利时微电子imec ASML EUV High NA 实验室中，我们也展示了高数值孔径极紫外光微影设备（High NA EUV）如何支援多个未来的制程技术节点。
ASML特别强调要和生态系统合作伙伴德国蔡司Zeiss、雷射源供应商创浦TRUMPF、荷兰VDL集团强化联盟力量，以达成延续摩尔定律的目标。
Christophe Fouquet更强调，ASML与客户的关系是由对创新和技术进步的共同承诺所推动的。 ASML与台积电的合作关系体现了这一宗旨：近四十年来，它建立在信任、协作和对卓越的承诺的基础上。
Christophe Fouquet刚于4月接下ASML执行长一职，但这并非是与魏哲家的首次会面。 Christophe Fouquet当时以ASML商务长的身份，与ASML前执行长Peter Wennink年初曾进行亚洲巡访客户，拜访台积电总部自然是当时重要行程之一。
众所皆知，针对ASML最新一代、一台要价4亿欧元的High NA EUV曝光机设备，英特尔的采用意愿非常积极且下了订单，台积电维持过往的保守风格，非常谨慎评估，不会轻易在 转进新一代制程技术的第一版，就导入最先进的设备。
另外，从ASML日前端出的2024年第一季财报可知，中国营收贡献仍是该公司支柱，但随着美国的出口管制越来越严格和逐季落实，ASML势必要找寻更多的营 收来源。 业界认为，说服台积电早日导入High NA EUV曝光机设备，并且下订单，会是两家公司下一步的关键发展，且是双方高层会面的重点，包括这次魏哲家亲访ASML总部。
德国蔡司Zeiss半导体也在Linkedin上提到了魏哲家拜访总部Oberkochen。 拥有独特历史的蔡司，总部位于德国西南部巴登-符腾堡州（Baden-Württemberg）的Oberkochen镇，该小镇的人口仅8000人，却掌握着全球最精密、最先进的半导体晶片设备的 反射镜和透视镜。
蔡司是ASML非常重要的技术合作伙伴，是ASML唯一的镜头供应商。 蔡司不但拥有独特的微影和光罩系统技术，手上更有超过2,000个与EUV微影设备相关的关键技术专利。
ASML前执行长Peter Wennink曾说过，没有蔡司的光学器件，ASML将无法生产极紫外光EUV曝光机设备，而没有EUV曝光机，也无法生产人工智慧AI、自动驾驶这些尖端技术的晶片。
蔡司在ASML开发先进制程技术曝光机的重要性上，可从另一件事来看出端倪。 早在今年4月，三星电子会长李在镕就抢先魏哲家一步，先去德国总部拜访蔡司，双方共表示要加强晶片制造的合作，提高晶片良率和效能。 这次魏哲家拜访蔡司德国总部，应该也是有「固桩」的意思。
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